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PTC LT12002H温等静压机是一种专门针对多层陶瓷产品的等静压成型工艺设计的层压设备。它在电子陶瓷、半导体陶瓷、新能源陶瓷等关键领域中宽泛利用，凭借其机能及靠得住度和行业内的宽泛选取，已成为市场上备受青睐的层压系统之一。
PTC LT12002H温等静压机是一种专门针对多层陶瓷产品的等静压成型工艺设计的层压设备。它在电子陶瓷、半导体陶瓷、新能源陶瓷等关键领域中宽泛利用，凭借其机能及靠得住度和行业内的宽泛选取，已成为市场上备受青睐的层压系统之一。
LT12002H等静压机通过使用水作为压力传递介质，在封关的高压容器内部对陶瓷产品执行各个方位、等量的压力作用。遵循流体力学道理，这种压力以恒定且均匀的方式向各个方向传递，确保陶瓷产品形成拥有预期致密度的坯体。
利用领域：
LTCC低温共烧陶瓷，HTCC高温共烧陶瓷，MLCC多层陶瓷电容器，PTC/NTC压敏热敏电阻，MLCI片式叠层电感，PZT多层压电陶瓷，SOFC/SOEC电池片，静电吸盘，探针卡，陶瓷基板，吸波滤器资料，铁氧体资料，发热片等多层陶瓷器件行业。
特点：
压力精准，温度均匀
分段起落压
结构幼巧
人道化设计，简洁易用
30+年技术底蕴。
根基参数：
型号 | LT12002H |
压强(max.) | 12000psi(83MPa) |
压强精度 | ±50psi |
温度(max.) | 85℃（可选配至93℃） |
温度精度 | ±2℃ |
腔体尺寸(W*D*H) | 117*295*420mm |
合用巴块尺寸 | ≤10" |
表形尺寸 (W*D*H) | 1045*1055*1535mm |
电源 | 380VAC, 3相, 20A |
气源 | 100PSI(0.7Mpa) |
水源 | 纯净水，去离子水 |
温等静压机选型参考表：
型号 | LT12002H | ||||
压强 | 8000psi | 8000psi | 12000psi | 8000psi | 8000psi |
(55MPa) | (55MPa) | (83MPa) | (55MPa) | (55MPa) | |
合用巴块尺寸 | ≤6" | 6"~10" | 6"~10" | 6"~12" | ≤20" |
利用领域 | HTCC, LTCC, SOFC, PIEZO | 静电吸盘， | |||
PTC温等静压机视频介绍
